Aurion Anlagentechnik GmbH
- Fabrikant
- Duitsland
- Website
- Productaanvraag verzenden
- Telefoonnummer
Aurion Anlagentechnik GmbH
- Fabrikant
- Duitsland
- Website
- Productaanvraag verzenden
- Telefoonnummer
- DIN EN ISO 9001:2015
Aurion Anlagentechnik GmbH
- Fabrikant
- Duitsland
- Website
- Productaanvraag verzenden
- Telefoonnummer
- DIN EN ISO 9001:2015
Plasma-etsinstallaties van Aurion Anlagentechnik GmbH
Het RIE-proces (reactief ionenetsen) is een droogetsproces dat wordt toegepast in de elektronica- en micro-elektronica-industrie. Toepassingen zijn bijvoorbeeld snelle en uiterst grondige oppervlaktereiniging, oppervlakteactivering, het verwijderen van fotoresist en het etsen van halfgeleiders.
Voor dit proces wordt doorgaans een vlakke plaatreactor gebruikt (zie figuur 1). Nadat een gasatmosfeer met een druk van 10⁻² tot 10⁻¹ mbar is gecreëerd, wordt de gasontlading (plasma) ontstoken door een RF-spanning aan te leggen. Als gevolg van de verschillende mobiliteit van lichte elektronen en zware ionen in het elektrische veld bouwt zich een negatieve gelijkstroompotentiaal op bij de kleinere elektrode (substraatdrager). Deze zelfvoorspanning bedraagt doorgaans ongeveer 10 tot enkele honderden volt.
Voor dit proces wordt doorgaans een vlakke plaatreactor gebruikt (zie figuur 1). Nadat een gasatmosfeer met een druk van 10⁻² tot 10⁻¹ mbar is gecreëerd, wordt de gasontlading (plasma) ontstoken door een RF-spanning aan te leggen. Als gevolg van de verschillende mobiliteit van lichte elektronen en zware ionen in het elektrische veld bouwt zich een negatieve gelijkstroompotentiaal op bij de kleinere elektrode (substraatdrager). Deze zelfvoorspanning bedraagt doorgaans ongeveer 10 tot enkele honderden volt.