Aurion Anlagentechnik GmbH

Fabrikant
Duitsland
Website
Product aanvraag
Telefoonnummer

DIN EN ISO 9001:2015

Fabrikant
Duitsland
Website
Product aanvraag
Telefoonnummer

DIN EN ISO 9001:2015

Plasma-etsinstallaties van Aurion Anlagentechnik GmbH

Het RIE-proces (reactief ionenetsen) is een droog etsproces dat wordt gebruikt bij de elektronische en micro-elektronische productie. Toepassingen zijn bijvoorbeeld snelle en ultrahoge oppervlaktereiniging, oppervlakte-activatie, fotoresistentiestrippen en halfgeleideretsen

Voor dit proces wordt meestal een vlakke plaatreactor gebruikt (zie figuur 1). Na het genereren van een gasatmosfeer met een druk van 10-2 tot 10-1 mbar wordt de gasontlading (plasma) ontstoken door het toepassen van een RF-spanning. Veroorzaakt door de verschillende mobiliteit van lichte elektronen en zware ionen in het elektrische veld, bouwt zich een negatief DC-potentiaal op aan de kleinere elektrode (substraatdrager). Deze zelfbepalingspotentiaal is meestal ongeveer 10 tot een paar honderd volt.